惠州parylene-菱威纳米(推荐商家)

       由于Parylene涂层材料是在真空下沉积而成，是裂解的分子重新聚合形成的防护材料，属分子级的生长，生成的涂层致密稳定、摩擦系数小，且随着涂层生长厚度的增加，摩擦系数减小。在厚度为0.5μm时，派瑞林parylene，摩擦系数仅相当于硅涂覆层的一半，厚度为2μm时的摩擦系数，仅相当于0.5μm厚涂层摩擦系数的1 /4。

       Parylene 材料有良好的物理和机械性能，其和常用涂层的物理和机械性能比较如表 1 所示，从表中可以看出，其抗拉强度、线膨胀系数、硬度数值等参数相对稳定，变化范围小，摩擦系数较小。 

       离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，惠州parylene，如霍尔离子源或阳极层离子源。

       阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形（长方形或圆形）窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，特别适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。

       考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，parylene 防水，离子能量带宽集中，parylene 厂家，可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，另外就是离子流量有极限，对需要大离子流量的用户可能不适和。

       霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。