真空镀膜材料推荐「菱威纳米」

派瑞林涂层用于生物的表面（如骨钉、探针、导丝、起搏器、脑电极、植入式传感器等），以其较好的耐腐蚀、耐，、低阻滞性、低摩擦系数及生物相容性，将逐步取代TiNi（镍钛）合金涂层而被越来越多的用户选择。

派瑞林涂层用于硅片、芯片、半导体表面，能有效隔绝空气中的水氧，起到很好的封装作用。

派瑞林涂层用于和书籍画卷的表面，加固纸张的质地，在表面增加保护层，起到防蛀、防霉、的作用。

        首先采用深反应离子刻蚀制作微通道，然后沉积派瑞林涂层C在微通道上，同时派瑞林涂层沉积在纯铁片上，在其上制作金电极，在200℃真空箱内将派瑞林涂层键合，剥去纯铁片以及采用特殊工艺释放（Parylene）涂层微通道。通过控制（Parylene）涂层沉积的厚度，可以在相同的微通道上制作不同深宽比的派瑞林涂层微通道，同时也可以制作多层结构微通道。用此方法制作的各种微通道(所有微通道的内径为80μm宽、50μm深、壁厚为10μm)。通过此方法，可以快速低成本地制作派瑞林涂层微通道，并通过释放工艺可以获得很好的派瑞林涂层微通道，同时可以重复使用硅模，普遍用于气相色谱分析等微流体系统分析中。派瑞林涂层阻滞性佳，湿气及气体渗透性极低，具高屏障效果，抗酸碱性。

       离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。

       阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形（长方形或圆形）窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，特别适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。

       镀灯具铝膜。因为是金属膜，当然是直流磁控溅射好。速度快。中频适合镀化合物膜。如果选离子源，霍尔离子源就够了。但要注意灯具大小。一般霍尔离子源是圆形，离子源覆盖的面积有限。你一定要用离子束将工件全部覆盖到。若普通霍尔离子源太小，可考虑用阳极层离子源。离子源难起辉的一个原因是磁场太弱激发不起等离子体。离子源的种类虽多，但基本上是先产生等离子体，然后从等离子体中抽出气体离子并加速成离子束，让后视需要注入电子中和离子流。