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云浮微电极镀膜价格行情 菱威真空镀膜工厂

发布时间:2021-08-19 02:16:00        作者:菱威纳米







        Parylene HT,该材料具有更低的介电常数(即透波性能好)、好的稳定性和防水、防霉、防盐雾性能.短期耐温可450摄氏度,长期耐温

        CVD(Chemical Vapor Deition)法:将对二和水蒸气按一定比例混合,经 950~1000 °C高温热解,得到对二环二体(dimer),随后,经提纯的二聚体在 120°C 的升华区内升华,在惰性气体的推动下,二聚体进入温度为 660°C 的裂解区,高温下二聚体的分子键断裂,生成活性的对二活性单体(monomer),后在惰性气体气的推动下,活性单体在常温或较低温度下的真空沉积室里,在相应的基体材料的表面聚合沉积为parylene 薄膜。




原子层沉积是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器并在沉积基体上化学吸附并反应而形成沉积膜的一种方法(技术)。当前驱体达到沉积基体表面,它们会在其表面化学吸附并发生表面反应。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体对原子层沉积反应器进行清洗。由此可知沉积反应前驱体物质能否在被沉积材料表面化学吸附是实现原子层沉积的关键。气相物质在基体材料的表面吸附特征可以看出,任何气相物质在材料表面都可以进行物理吸附,但是要实现在材料表面的化学吸附必须具有一定的活化能,因此能否实现原子层沉积,选择合适的反应前驱体物质是很重要的。


       原子层沉积(ALD)是一种沉积原子级薄膜的技术,它是以一种连续脉冲的方式在样品表面和反应前驱体材料之间发生化学反应。与传统的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术相比,沉积速率相对较慢,但是它可在高深宽比的沟槽和通孔结构上沉积均匀薄膜。另外,在原子层沉积过程中,样品表面上没有物理和电学损伤,而在PECVD过程中由于离子轰击这种损伤却不可避免。此外,通过使用不同的反应材料可沉积各种薄膜(氧化物,氟化物,氮化物,金属等)。


       困扰听障人士的,莫过于助听器的日常护理工作,助听器怕脏怕潮湿,而且助听器内的电子元件小型化,抗干扰,等要求,更需要适应各种恶劣的工作环境。随着防水、防潮、防尘技术的不断发展,派瑞林(Parylene)真空纳米镀膜技术在提升助听防护领域得到了很好的应用。

       派瑞林涂层作为一种新型的三防材料,存在环保wu毒无气味不污染环境的先天优势,通过气相沉积CVD的方式形成一种致密的防护膜,从而对被涂敷的产品起到防潮防盐雾防霉菌的三防效果。




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