惠州派瑞林涂覆的行业须知「菱威纳米」

       真空涂层技术发展到了今天还出现了PCVD(物理化学气相沉积)、MI-CVD(中温化学气相沉积)等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。目前较为成熟的PVD方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单，容易操作。多弧镀的不足之处是，在用传统的DC电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。而且，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能地发挥它们各自的***性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法増厚涂层，后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。

      普通真空镀膜时，在工件表面与镀层之间几乎没有连接的过渡层，好似截然分开。而离子镀时，离子高速轰击工件时，能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，对离子镀后的试件作拉伸试验表明，一直拉到快要断裂时，镀层仍随基体金属一起塑性延伸，无起皮或剥落现象发生，可见附着多么牢固，膜层均匀，致密。

       工艺方面水性三防漆由于干燥固化较慢，为了标准的涂覆控制，好是选择喷涂，而喷涂有一些电子制造企业并不具备喷涂和加热固化产线，外发加工会增加时间成本，周转损失，对整体生产进度影响较大，而纳米涂层推荐使用浸涂工艺，再加上固化秒干，可直接在本厂产线完成，可以理解为浸涂后几分钟就可以进行下一个工序。

        附着力方面纳米涂层要略弱一些，尖锐的工具或者指甲都可能会划破，不过这个不足有时也成为了优势，比如不小心浸涂到USB之类的插件上，导致插件绝缘，但只要插拔几次即可导通。水性三防漆的附着力要优于纳米涂层。

       关于膜厚度方面纳米涂层本身是纳米级材料，涂膜比水性三防漆薄，可以达到1微米左右，肉眼看不到、膜厚仪测不到的厚度，而水性三防漆就要厚很多。

       原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少两种气相前驱体物种，化学吸附的过程直至表面饱和时就自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。

       目前可以沉积的材料包括：氧化物，氮化物，氟化物，金属，碳化物，复合结构，硫化物，纳米薄层等。 中空纳米管，隧道势垒层，光电电池性能的提高，纳米孔道尺寸的控制，高高宽比纳米图形，微机电系统（MEMS）的反静态阻力涂层和疏水涂层的种子层，纳米晶体，ZnSe涂层，纳米结构，中空纳米碗，存储硅点涂层，纳米颗粒的涂层，纳米孔内部的涂层，纳米线的涂层。