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发布时间:2020-12-18 08:22:00 作者:菱威纳米
Parylene气相沉积涂敷工艺
在微电子领域,近些年Parylene应用发展较快,真空气相沉积制备的Parylene不仅可制精细尺寸的涂层,而且该涂层可用微电子的加工工艺进行刻蚀加工图形。它除了作为微电子器件钝化材料、引线加固封装材料外,在微米以下超大规模集成电路制作中,还作为一种低介电常数材料用作集成电路的介电材料,特别是氟代Parylene,更被国外集成电路研究者所青睐,用作多层集成超大规模集成电路的层间绝缘介质。 Parylene气相沉积涂敷工艺涂敷时,在工作上有很强的渗透性,能渗透到SMT贴片工件的底部和工作表面疏松的毛细孔中,真正形成完全敷形,均匀一致的防护涂层。Parylene气相沉积涂敷工艺没有溶剂、助剂,即使在0.1微米厚也没有,气态小分子在工作表面直接聚合成固态的涂层薄膜,没有通常涂层的固化过程和固化引起的收缩应力,对工件能进行表面加固,但不会引起伤害,也没有因表面张力而引起的涂层弯月面状不均匀。
1、光学特性:Parylene在可见光的范围内吸收得很少,因此是透明无色的。无色透明的薄膜可用于光学器件、可擦性光电储存器件和静电复印器件。在低于280微米时,Parylene N 和Parylene C 的吸收都很强。
2、性和气候变化抵抗能力:在真空中,Parylene N,C和D薄膜表现出很高的抵抗伽玛射线衰变的能力。张力和电气性能在1.6Mr/h的剂量率下加到100Mr之后仍旧保持不变。虽然Parylene在室内稳定,但建议不要在室外阳光直接照射的环境下长期使用。
派瑞林薄膜制备过程为环状二聚体在高温下两个相连碳键断裂
常用制备派瑞林的方法是化学气相沉积法(CVD),反应物质在气态条件下发生空间气相化学反应,在固态基体表面直接生成固态物质,进而在基材表面形成涂层的一种工艺技术。派瑞林薄膜制备过程为环状二聚体在高温下两个相连碳碳键断裂,生成具有活性的对二亚苯单体,当其从高温环境进入室温环境的沉积室时,不稳定的单体就会聚合成膜。整个制备工艺过程分为三步:单体的汽化、裂解、在基材表面进行附着沉积。
东莞菱威纳米科技有限公司是一家技术先于的【派瑞林】镀膜工程解决方案商,专注于【parylene派瑞林】纳米镀膜加工和技术服务。东莞菱威纳米,作为【派瑞林】行业的创新者和开拓者,致力于【真空纳米镀膜技术】及【镀膜设备】的生产和研发,带领商业模式变革,建立从基础研究、工程化设计、产业化生产的全产业链平台,通过自主创新、自主研发,实现工业4.0产业革命,努力打造自动真空镀膜产线,成为智能化、自动化、工程化的【派瑞林镀膜】***解决方案供应商。
三防漆根据每个地区和每个厂家使用的要求和侧重面有多种叫法,如三防胶、防潮胶、绝缘胶、防潮漆、保护漆、防护漆、披覆胶、涂覆胶、防水胶、防潮油、三防油、三防剂、保护剂、防潮剂、保形涂料、敷型涂料、共形覆膜、共性涂覆,英文名Conformal Coating。三防漆是一种特殊配方的涂料,用于保护线路板及其相关设备免受坏境的侵蚀,从而提高并延长它们的使用寿命,确保使用的安全性和可靠性。
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